Chinas Fortschritte in der EUV-Lithografie: ASML bleibt vorerst unangefochten
- China entwickelt Prototyp einer EUV-Lithografiemaschine, ASML bleibt vorerst unangefochten.
- Institutionelle Investoren stocken ASML-Beteiligungen auf, Analysten optimistisch.
ASML, der niederländische Halbleiter-Ausrüster, sieht sich mit einer unerwarteten Entwicklung konfrontiert. China hat einen Prototypen einer EUV-Lithografiemaschine entwickelt, der das Herzstück von ASMLs Technologie angreift.
Das Projekt, unter der Leitung von Huawei, wird in Branchenkreisen als „Manhattan-Projekt“ der chinesischen Chipindustrie bezeichnet. Die Maschine erzeugt bereits EUV-Licht und befindet sich in einer fortgeschrittenen Testphase.
Obwohl China noch weit von einer Serienfertigung entfernt ist, wird ASMLs Dominanz im EUV-Segment erstmals ernsthaft infrage gestellt. Beobachter erwarten frühestens ab 2030 eine marktfähige Volumenproduktion.
Finanzmärkte reagieren bemerkenswert gelassen. Institutionelle Investoren stocken ihre ASML-Beteiligungen auf, da sie den China-Vorstoß als langfristiges Thema sehen, nicht als akutes Risiko.
Intel hat bereits die nächste ASML-Generation in Betrieb genommen. Die High-NA-EUV-Anlage TWINSCAN EXE:5200B setzt neue Maßstäbe und zeigt, dass westliche Chipfertiger weiterhin auf ASML angewiesen sind.
Analysten bleiben optimistisch. Rund 72 Prozent empfehlen den Kauf von ASML-Aktien, mit einem durchschnittlichen Kursziel von 1.172 US-Dollar.
ASML übertraf im dritten Quartal die Gewinnerwartungen. Die zentrale Frage für Anleger ist nicht, ob China aufholt, sondern wann. Kurz- und mittelfristig bleibt ASML unangefochten.
Langfristig könnte ein produktionsreifer chinesischer EUV-Anbieter das Gleichgewicht verändern. Bis 2030 bleibt ASML der Schlüsselspieler der globalen Chipindustrie.
